【视点】日本对华“光刻胶禁令”倒计时 中国千亿芯片扩产计划遭遇“断供”危机？

近日，有消息称，日本从2025年12月中旬起全面停止向中国出口光刻胶，尽管日本政府和企业并未正式宣布此事，但日本和中国业界已普遍将其视为既定事实。措施的具体实施范围已明确到佳能、尼康、三菱化学等企业。而日本占据全球70%以上的光刻胶市场份额，此举无疑给中国半导体产业带来严峻挑战，甚至可能延缓国内存储器扩产计划。

从全球市场格局来看，光刻胶行业呈现高度垄断特征。日本合成橡胶（JSR）、信越化学、东京应化、住友化学等企业与美国杜邦、韩国东进世美肯共同占据95%的全球供应量，其中日系企业占据绝对主导地位。不仅如此，光刻胶的辅助材料如抗反射涂层，以及其核心原材料专用树脂、单体、光引发剂等，其供应链也高度集中于日本、美国和欧洲的企业手中。形成全产业链的垄断壁垒。

从市场规模看，随着国内晶圆厂产能持续扩张，中国已成为全球光刻胶需求增长最快的市场之一。但自给率仍然很低，光刻胶整体进口依赖度高达80%-90%，其中50%-55%来自日本，2024年从日进口额达13.6亿美元，占感光化学品进口总额的54.5%。尤其是7nm以下先进制程所需的EUV光刻胶完全依赖进口，90nm-7nm制程用ArF光刻胶进口依赖度超90%，28nm-90nm制程用KrF光刻胶依赖度也达95%以上。

在产能与产量方面，国内企业目前主要集中在技术门槛相对较低的PCB（印刷电路板）光刻胶和部分G线、I线半导体光刻胶领域，已实现一定规模量产和国产替代。然而，在更为关键的KrF（248nm）、ArF（193nm）乃至最前沿的EUV（极紫外）光刻胶领域，国内产能规模小，稳定批量供应能力不足，尚无法支撑先进制程的大规模生产。

面对外部供应风险，中国光刻胶产业正加速崛起，在国产化进程中，一批头部企业如彤程新材、南大光电、上海新阳等脱颖而出。南大光电已为中芯国际供应28nm逻辑芯片和50nm存储芯片用光刻胶，2025年三季报实现营收18.84亿元、净利润3.01亿元；彤程新材构建多元产品矩阵，以25.23亿元营收领跑行业；上海新阳的高端光刻胶通过多家芯片制造企业验证，营收同比增长30.62%；晶瑞电材、容大感光等企业也在细分领域实现突破，股价与市值稳步增长。

此次日本可能出台的“断供”举措，短期来看若高端光刻胶供应骤然收紧，国内在建和规划的先进存储器等产线将面临直接的物料短缺风险，可能导致产能爬坡延迟、生产成本激增，甚至影响技术迭代节奏，从而延缓中国在全球半导体制造领域的追赶步伐。

但日本半导体材料生产所需的镝、铽等稀土，90% 依赖从中国进口，而中国也是日本半导体最重要的终端市场。

日本此举在施加巨大压力的同时，也必将从反向极大刺激中国加速实现光刻胶及其关键材料自主可控的决心与投入。对于中国而言，此次断供危机既是挑战，更是国产替代的加速契机。未来需持续加大研发投入，攻克EUV光刻胶等“卡脖子”技术，完善树脂、光引发剂等配套材料的自主供应链。